半導體製程及原理 半導體工業的製造方法是在矽半導體上製造電子元件 (產品包括:動態記憶體、靜態記億體、微虛理器…等)，而電子元件之完成則由精密 ... (5)純水設備再生廢水：NaOH、HCl、H 2 O 2。 (6)濕式洗滌塔廢水：洗滌廢氣所含之污染質。 2. IC構裝製造作業主要污染源為切割 ...
曝光原理與曝光機 - 中原大學機械工程學系 曝光原理 曝光製程 曝光光源系統 手動曝光機 自動曝光機 ... 高啟清博士 Charles Kao, Ph.D Tel: 02-2601-0700 Mobile: 0939-268-725 cckao@csun.com.tw V2.1 2007/4/10 課程綱要 多層板曝光製程 內層曝光顯影蝕刻 內層壓膜曝光設備 外層曝光電鍍蝕刻 外層曝光 ...
光阻塗佈機 自動塗佈機 乙揚精研：設計生產客戶需求的專業塗佈機、治具、檢具及多樣材質的機械零件加工製作。-English- -繁體中文- -日本語- . SPC-101 (510mm*550mm*550mm) 產品特色： ※ 連續可變的速度範圍 0-8,000 ...
TecLin Corp., Ltd. : Technology Value Linking全自動光阻塗佈/顯影機 | TecLin Corp., Ltd. :: Technology Value Li Teclin Co., Ltd. 穎強科技股份有限公司 ... 廠牌：SVS MSX1000 是針對光電、半導體製程所設計的模組化塗佈系統，適合於2”~6”的晶片，並可應用在ASICS、LED、OLED、MEMS 等製程，並可以因應不同光阻塗佈及顯影製程提供不同設計，在馬達轉速及加速，烤 ...
光阻塗佈機 Roller Coater - 群翊工業/旺群科技 - 塗佈、乾燥、曝光及自動化整合 首頁 简体中文 English LCD, Touch Panel, Back Light, Solar Cell Application 光阻塗佈機 Roller Coater 特色 單面水平塗佈。 塗膜厚度2-3µm或5-15µm,依製程需要 塗膜均勻性+ -10%以內 Back Top 台灣公司 TEL: +886-3-496-1638 FAX: +886-3-496-1313
國立中央大學 2008年7月10日 - 本研究以TFT-LCD 業未混雜到其他溶劑，且經過旋轉塗佈製程後，被甩離玻. 璃基東之剩餘 ...
實驗一 一、目的：熟悉微影製程並了解各個步驟之原理及影響。 二、器材及藥品：旋轉塗佈機 、曝光機、加熱板(Hot ...
接著劑推薦熱門網: 接著劑原理 - yam天空部落 缺氧膠之接著原理 - 工業用膠的專家 - Yahoo!奇摩部落格... 固化反應之時間會因金屬材質及缺氧程度不同而有所差異,缺氧膠完全固化後擁有優越之接著力及抗環境特性,耐溫範圍為...
Chapter 6 微影技術 基本步驟，舊式技術. •晶圓清洗. •預烤. •底漆層和光阻的旋轉塗佈. •軟烘烤. •對準和曝光. •顯影. •圖案檢視. •硬烘烤. 光阻塗佈. 顯影 ...
旋轉塗佈機 光阻塗佈機 設計生產客戶需求的專業塗佈 機、治具、檢具及多樣材質的機械零件加工製作。-English- -繁體中文 ... 旋轉馬達:直流馬達 150W (含DC 驅動器) 旋轉精度 : ＜ 1 ％ 轉以內 旋轉時間: 0~999.9 秒 每段皆可設定 ...
