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光阻塗佈原理知識摘要

(共計:20)
  • [技術專文] LCD光阻塗佈技術與發展趨勢 - 《化合物半導體·光電技術》雜誌
    次世代LCD光阻塗佈技術 隨著LCD顯示器躍為顯示產業的主流,同時有取代映像管電視的龐大需求驅使下,使得世界TFT-LCD各大廠積極投入次世代的TFT生產線,藉由基板的大型化來降低生產成本以提高產品的競爭力。

  • 光阻塗佈機 自動塗佈機
    乙揚精研:設計生產客戶需求的專業塗佈機、治具、檢具及多樣材質的機械零件加工製作。-English- -繁體中文- -日本語- . SPC-101 (510mm*550mm*550mm) 產品特色: ※ 連續可變的速度範圍 0-8,000 ...

  • 曝光原理與曝光機
    多層板製程; 曝光製程; 光阻曝光原理; 曝光光源系統; 曝光量測 .... 塗佈→預烤→曝光→顯像→後烘烤→UV硬化 約0.8 mil厚,能量400~600 mj/cm2; 曝光時需抽真空使 ...

  • 旋轉塗佈的原理和用途- Yahoo!奇摩知識+
    2007年4月8日 - 最近學到旋轉塗佈,網路上查了又查都搞不清楚在講些甚麼,請各位大大幫幫我~~~ 感恩.

  • 國立中央大學
    2008年7月10日 - 本研究以TFT-LCD 業未混雜到其他溶劑,且經過旋轉塗佈製程後,被甩離玻. 璃基東之剩餘 ...

  • 實驗一
    一、目的:熟悉微影製程並了解各個步驟之原理及影響。 二、器材及藥品:旋轉塗佈機 、曝光機、加熱板(Hot ...

  • Spin Coater 1 操作手冊
    儀器原理. 微影製程包括三個主要步驟:光阻塗佈、曝光和顯影。本機台主要是應用在第一階段的光阻塗佈。 ... Clean)、去水烘烤(Dehydration Bake)、塗底(Priming) 和光阻旋轉塗佈(Spin ...

  • 光阻塗佈
    微影技術是圖案化製程中將設計好的圖案從光罩或倍縮光罩上轉印到晶圓表面的光阻上時所使用的技術; 半導體產業則是在1950年採用微影技術來製造電晶體和積體電路 .... 半導體製程技術導論—羅正忠; www2.austin.cc.tx.us/HongXiao/Book.htm ...

  • 微影技術中的光阻 | AZ Electronic Materials
    狹縫式塗佈正型光阻(較低感光度),可使用於 half-tone 製程 新一代顯示器的 進階光阻 詳細資訊 SZF 系列 進階 half-tone 技術的高解析度光阻 ...

  • 旋轉塗佈的原理和用途 - Yahoo!奇摩知識+
    旋轉塗佈的原理 和用途 發問者: ~ㄚ宇~ ( 初學者 5 級) 發問時間: 2007-04-08 14:24:47 解決時間 ... 雖然塗佈膜厚均一性良好,其最大缺點為材料使用率太低,90%以上光阻 ...

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