皮托科技Pitotech - 電漿(Plasma)在化學氣相沉積(CVD)製程之應用與特性-以COMSOL模擬電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)系統 ... ... 等都是電漿的行為呈現。電漿原理的了解和其特性之應用在近期是很熱門的主題，許多半導體晶圓製作過程都有運用電漿特性來改善製作 ...
電漿源原理與應用之介紹 - 中華民國物理學會 The Physical Society of Republic of China 物理雙月刊（廿八卷二期）2006 年4 月 441 環繞電流方向的時變磁場 (B)，此磁場穿透介電窗，於電漿腔中感應產生一與RF 電流反向之電場 (E)，此 電場加速電子並感應形成電漿電流 (Jp)。由於此電磁 感應機制與與變壓器原理相同，其中線圈為變壓器之
交通大學學術集成 National Chiao Tung University IR:Item 987654321/59638 Title: PECVD電漿Arcing之改善研究 On the reduction of the Plasma Arcing in a PECVD Chamber Authors: 彭元宗 ...
光電產業設備技術專輯 - yalu 研究，探討Ar 電漿與SiH4、H2 工作氣體對於製程腔 體內部流場及微晶矽薄膜沉積特性的影響。模擬部 ... 濃度分佈之影響。一般 ...
電漿表面改質及摻雜對 LPCVD 氧化鋅膜效應之研究 近日 研究發現，對半導體材料施以 電漿 表面改質，可以大幅 改善 其光電特性表面 改質主要是利用惰性氣體原子的碰撞，會 ...
高頻電漿CVD不同功率對非晶矽膜及薄膜太陽能電池之特性分析 高頻 電漿CVD不同功率對非晶矽膜及薄膜太陽能電池之特性分析 沈炤德 1王朝俊 王勝進 *連水養1, 2 陳家富 1 明道大學材料科學與工程學系 2 明道大學太陽光電 ...
Study on the analytic simulation of plasma system 委託 研究計畫 研究報告 電漿 系統監控模擬分析 研究 Study on the analytic simulation of plasma system ...
目 錄 PECVD美國專利分析與地圖製作 金屬工業 研究 發展中心 中華民國98年10月 目 錄 一、前言 1 二、內容綱要 2 三、專利分析的概念 ... CCP ...
皮托科技Pitotech - 電漿(Plasma)在化學氣相沉積(CVD)製程之應用與特性(彰化) 本課程主要以COMSOL Multiphysics 4.3b內的 電漿模組(Plasma module)來模擬 電漿輔助化學氣相沉積( PECVD ...
PECVD PV cell_百度文库 高頻 電漿 CVD 不同功率對非晶矽膜及薄膜太陽能電池之特性分析 沈炤德 1 王朝俊 1 王勝進 1 *連水養 1, 2 陳家富 1 明道大學材料科學與工程學系 2 明道大學太陽光電 ...
