半導體製程及原理 半導體工業的製造方法是在矽半導體上製造電子元件 (產品包括:動態記憶體、靜態記億體、微虛理器…等)，而電子元件之完成則由精密 ... (5)純水設備再生廢水：NaOH、HCl、H 2 O 2。 (6)濕式洗滌塔廢水：洗滌廢氣所含之污染質。 2. IC構裝製造作業主要污染源為切割 ...
Business Express - 工商快訊/電氣、電子機械 盛技精密股份有限公司※ 電子業生產設備(自動化機械) / 自動排支架機 / 自動打膠機、led 測試分類機 / 晶片自動測試機 / 探針測試組裝機... 祥耀企業社※ 電容器生產設備... 通山機械股份有限公司※ 成型帶裝機:(電容、電阻、半導體、晶體、線圈)...
曝光原理與曝光機 - 中原大學機械工程學系 曝光原理 曝光製程 曝光光源系統 手動曝光機 自動曝光機 ... 高啟清博士 Charles Kao, Ph.D Tel: 02-2601-0700 Mobile: 0939-268-725 cckao@csun.com.tw V2.1 2007/4/10 課程綱要 多層板曝光製程 內層曝光顯影蝕刻 內層壓膜曝光設備 外層曝光電鍍蝕刻 外層曝光 ...
電漿 - 維基百科，自由的百科全書 電漿 （ Plasma ）是一種由 自由電子 和帶電 離子 為主要成分的物質形態，廣泛存在於 宇宙 中，常被視為是物質的第四態，被稱為電漿態，或者「超氣態」，也稱「電漿體」。電漿具有很高的 電導率 ，與 電磁場 存在極強的 耦合 作用。電漿是由 ...
正太科技股份有限公司 - GemTech Optoelectronics Corp. 正太科技為正隆集團所投資之高科技產業之一，主要產品為 ITO 導電玻璃，由於此產品具有高透光性，以及良好的導電性與蝕刻性。為平面顯示器中不可或缺的材料 ...
TecLin Corp., Ltd. : Technology Value Linking全自動光阻塗佈/顯影機 | TecLin Corp., Ltd. :: Technology Value Li Teclin Co., Ltd. 穎強科技股份有限公司 ... 廠牌：SVS MSX1000 是針對光電、半導體製程所設計的模組化塗佈系統，適合於2”~6”的晶片，並可應用在ASICS、LED、OLED、MEMS 等製程，並可以因應不同光阻塗佈及顯影製程提供不同設計，在馬達轉速及加速，烤 ...
投影片 - 化學系暨研究所 柯尼斯伯格(J.Konigsberger)和外斯(I.Weiss)半導體. 5 .... 半導體製程-蝕刻技術 .... 簡介. 60. 何謂光子晶體（Photonic Crystal）. 巨觀來說晶體有緊密且規律排列的晶格，依照Bragg equation繞 ...
ICP - 國研院儀科中心 建置在本中心之 STS 感應耦合電漿 離子蝕刻系統，其硬體基本規格如下：上電極線圈為 1000 W、頻率 13.56 MHz 的 RF 電源，下電極為 300 W、頻率 13.56 MHz 的 RF 電源。晶片冷卻方式為背面氦氣冷卻 ...
第三章 半導體製程的技術史 可利用10年的時間間隔，回顧半導體製程的歷史：. IC以前(1950年代) ... 半導體製程 技術發展史 ... 而且1970年代為確立半導體製造設備產業的時期。 ◇ 本時期所開發 ...
