Chapter 9 蝕刻 負載效應:巨觀. • 具較大開口面積的晶圓和具較小開口面. 積的晶圓，其晶圓對晶圓的蝕刻速率是. 不同的. • 主要影響批量蝕刻製程. • 對單晶圓製程影響不大 ...
蝕刻技術 蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。 蝕刻技術可以 ..... 面積越小，此現象越嚴重，亦即所謂的微負載效應(Micro loading Effect)。除此之外，如何 ...
National Tsing Hua University Institutional Repository:在奈米科技上準確地模擬微負載效應下連線電容 Title: 在奈米科技上準確地模擬 微負載效應下連線電容 Other Titles: Accurate Interconnect Capacitance Modeling ...
micro loading effect | 部落格熱搜 使得蝕刻速率降低。面積越小，此現象越嚴重，亦即所謂的 微負載效應(Micro loading Effect) ...
國 立 中 央 大 學 - 中文查詢介面 2-4-4 負載 效應 .16 2-5 結論 16 第三章 複晶矽閘極蝕刻 22 3-1 前言 .………………...22 3-2 蝕刻氣體的選擇 23 3-3 Fluorin Carbon ...
微電子材料與製程【第五章 半導體蝕刻技術】 - Process Integration[工藝整合] - 半導體技術天地 - 工程師的家園 ... 5-1 簡介在積體電路製造過程中，常需要在晶圓上定義出極細微尺寸的圖案(Pattern)，這些圖案主要的形成方式，乃是藉由蝕刻(Etching)技術，將微影(Micro-lithography)後 ... ...
逢 甲 大 學 材料與製造工程 機械工程組碩士班 碩士論文 微負載效應 (Microloading Effect) 。 關鍵詞：半導體製程，蝕刻製程，二氧化矽，硬式遮蔽層。學位論文題目: 利用二氧化矽做為硬式遮蔽層對80 奈米蝕刻製程的影響 III ...
5. Poly Etch Introduction_资料内容_资料下载_学习资料共享网 ... 的蝕刻速率又大於接觸窗的蝕刻速率， 區域的蝕刻速率又大於接觸窗的蝕刻速率， 亦 即 微負載效應 ...
半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 使用無應力研磨移除低介電常數薄膜上的銅 - Semicondutor Magazine 然而，加入虛設電介質柱，65%的銅會保留在這些墊中。在溝槽中的最終銅厚度因 微負載效應 ...
半导体蚀刻技术_百度文库 - 百度文库——让每个人平等地提升自我 ... (導體、 半導體、絕緣體)蝕刻的介紹、 微負載效應及電漿導致損壞等。 5-1-1 蝕刻技術中的術語 5-1-1a 等向性與非等向性蝕刻( Isotropic ...
