電漿 - 維基百科，自由的百科全書 電漿 （ Plasma ）是一種由 自由電子 和帶電 離子 為主要成分的物質形態，廣泛存在於 宇宙 中，常被視為是物質的第四態，被稱為電漿態，或者「超氣態」，也稱「電漿體」。電漿具有很高的 電導率 ，與 電磁場 存在極強的 耦合 作用。電漿是由 ...
電漿與電弧原理 - 中興大學教職員工網頁 2006/6/14: 電漿與電弧原理 電漿與電弧原理 報告人 詹振能 葉姿青 林威豪 。 。 兩極距離 ...
儀器設備 I-line光學步進曝光機(I-line Stepper) 其它 1 光阻塗佈機 (Photo Resist Spinner) 2 真空烤箱 (Vacuum Oven)(甲、乙兩台) 3 光學顯微鏡(Optical Microscope) 4 紫外光臭氧去光阻機(UV Ozone Dry Stripper ...
ICP - 國研院儀科中心 建置在本中心之 STS 感應耦合電漿 離子蝕刻系統，其硬體基本規格如下：上電極線圈為 1000 W、頻率 13.56 MHz 的 RF 電源，下電極為 300 W、頻率 13.56 MHz 的 RF 電源。晶片冷卻方式為背面氦氣冷卻 ...
電漿處理基本原理 電漿蝕刻主要應用於清除表面污染物，具有清潔之功效；並且造成基材表面氧化、 分解或進行其它化學反應，進而在高分子 ...
設備名稱Equipment 感應耦合離子電漿(Inductively-Coupled Plasma ... 感應耦合型電漿相較於反應離子蝕刻的腔體構造基本上相同，但前者多感應線圈配備 ，當射頻. 電流通過線圈時，經由感應 ...
清華大學物理系-本系師資-寇崇善教授 T. J. Wu , W. J. Guan, C. M. Tsai, W. Y. Yeh, and C. S. Kou “ Experimental Study of the Plasma Resonance in a Planar Surface Wave Plasma”, Phys. Plasmas, 8,3195, 2001 W. Y. Yeh, J. Hwang, A. P. Lee, C. S. Kou and H. Chang, “ Composite diamond-like ...
電漿機清潔機-【www.atlasgroup.com.tw 】〈聯宙科技股份有限公司〉 商 品 說 明 資 料 COVANCE . . . Multi-purpose plasma system The COVANCE series is a multi-purpose plasma processing system for carrying out various R&D themes with its unique design of highly stable and homogenous glow discharge plasma generation. It ...
TecLin Corp., Ltd. : Technology Value Linking微波電漿表面處理及清洗機 | TecLin Corp., Ltd. :: Technology Value L 您的所在位置： 穎強科技 / 產品與服務 / 蝕刻與擴散製程 / 微波電漿表面處理及清洗機 廠牌：PVA TePla TePla致力研發先進的微波電漿科技，提供獨家OLED/PLED玻璃表面清洗、活化與改質(親水/斥水表面)以及ITO電極、PCB ...
研磨拋光 - 高雄應用科技大學 超精密拋光方法介紹. # 基於力學加工原理之機械加工方法: 將較加工物硬度高的研磨粒子，以稱之為拋光 ...
