半導體製程及原理 半導體工業的製造方法是在矽半導體上製造電子元件 (產品包括:動態記憶體、靜態記億體、微虛理器…等),而電子元件之完成則由精密 ... (5)純水設備再生廢水:NaOH、HCl、H 2 O 2。 (6)濕式洗滌塔廢水:洗滌廢氣所含之污染質。 2. IC構裝製造作業主要污染源為切割 ...
Aera MFC 包括數位MFC(氣體控制用質量流量器)、MFM(質量流量計),具多功能、節省成本、易於使用之特點。多種類產出選項,可用類比式控制或是數位式控制。同時有單一氣體與多項氣體。 Transformer系列 可應用於CVD、PVD、擴散、蝕刻等製程。
真空PVD濺鍍原理 - 厚昌真空科技有限公司濺鍍 PVD離子鍍膜 PVD鍍膜(離子鍍膜)技術,其具體原理是在真空 條件下,採用低氣壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸鍍並使被蒸物與氣體都產生電離,利用電子的加速作用,使被蒸鍍物及其反物沉積在工件上 ...
鈦發色陽極處理-美上鎂提供鈦發色陽極處理 硬膜 陽極 無電解鎳 複合鎳鐵氟龍 化學黑鎳 電解拋光 三價鉻化成皮膜 鈦合金 發色 不鏽鋼鈍化 不鏽鋼黑化 鈦合金 ...
熱處理,真空清洗機【長達國際】鍍膜設備,自動送料-聯絡電話02-28282752 本公司提供歐洲熱處理設備及技術,含金屬、非鐵金屬等表面處理設備及技術。 ... 服務項目:熱處理,熱處理設備,氧探頭,真空淬火,熱處理爐,連續爐,鋁合金固溶化,熱處理淬火油,真空熱處理,高週波,電漿鍍膜,淬火爐,高週波淬火液,油淬,硬焊,高週波硬焊 ...
離子佈植 - 中央研究院物理研究所 Institute of Physics, Academia Sinica SNICS 離子源的工作 原理 係先利用游離後的銫 離子( Cesium )來撞擊陰極靶( cathode ...
離子佈植 - 中研院物理研究所 一般而言,離子佈植機的構造主要包括下列的系統:離子源(ion source)、分析 ... 其中離子源係為產生各種離子的基本設備,其工作原理係將靶材物質游離,使其形成 帶 ...
「離子植入法+退火處理法」。 這些元素藉由熱擴散法或離子植入法摻入矽中,目前以離子植入法為主流。 雜質摻入 .... 絕緣層的產生,也就是氧的植入等,需要使用高能量離子植入機。此外,源極/汲 ...
Chapter 8 離子佈植 2. 目標. ‧列出至少三種常用的掺雜物. ‧指出三種掺雜區域. ‧描述離子佈植的優點. ‧ 描述離子佈植機的主要部份. ‧解釋通道效應. ‧說明離子射程與離子能量的關係. ‧解釋 需 ...
應用材料公司精進3D晶片架構的離子植入技術| Applied Materials 3 天前 ... ... 900 3D系統提供無與倫比的離子光束精確度,用於摻雜複雜的鰭式場效電晶體( FinFET)及3D記憶體結構 ...