PVD鍍膜(離子鍍膜)技術,其具體原理是在真空 條件下,採用低氣壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸鍍並使被蒸物與氣體都產生電離,利用電子的加速作用,使被蒸鍍物及其反物沉積在工件上 ...
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