自動倉儲控制設計與資料庫管理之整合
Work Functions for Photoelectric Effect - HyperPhysics Element, Work Function(eV). Aluminum. 4.08. Beryllium. 5.0. Cadmium. 4.07. Calcium. 2.9. Carbon. 4.81. Cesium. 2.1. Cobalt. 5.0. Copper. 4.7. Gold. 5.1. Iron ...
有機電激發光元件 陰極必須是一個低功函數的金屬. – 陽極則需要用一個高功函數的材料去配合，才. 可得到最低的注入能障。 陰極功函數對於電子注入的影響程度. • Stossel et al.以真空 ...
應用於金屬閘極整合的原子層沉積 - 半導體科技 然而，於選擇合適的金屬閘極時，有效功函數(effective work function)的控制為最重要 ... 閘極NMOS金屬堆疊，採用薄TiN層與Ti/Al混合物以設定正確的有效功函數[9] 。
貼片電流感測電阻/採樣取樣電阻/分流合金電阻/微歐姆低值電阻器 - 德鍵電子 德鍵電子提供多種電流感應產品，符合電子工業及軍用標準，如運用薄膜/厚膜技術的 電流感測 ... 元器件 ...
Download - 國家教育研究院雙語詞彙、學術名詞暨辭書資訊網 Sheet1 lap coil winding 疊繞組，疊繞法 lap connection 疊[式連]接 lap connection winding 疊接繞組 lap dissolve 疊溶 lap joint 搭接 lap seam weld 搭線焊 lap taping 疊繞，疊包(線圈的) lap valve 活葉門，瓣門，舌閥 lap weld
buy360-ic 電子批發網 公司簡介 Buy360-IC始終堅持以純電子商務模式營運，主要的營業項目為 電子材料 電子電件 ，為消費者在第一時間提供優質的產品及滿意的服務,我們一直在努力，一直在進步，期許 ...
半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 先進CMOS電晶體之金屬閘極整合化CMP製程 - Semicondutor Magazine 10pt 3>因為新材料的引入，使得高介電常數金屬閘極(high-k metal-gate, HKMG)CMOS電晶體的量產製程整合化更形複雜。後閘極(gate-last)HKMG製程需要兩個新的化學機械研磨(CMP)製程，兩者對最終閘極高度(gate height)與表面形貌(topography)都需要極度的 ...
高瞻自然科學教學資源平台 本週熱門 2014年你不可錯過的觀星盛事 393 view(s) [活動] 2014高瞻計畫_科學實驗論文寫作工作坊 332 view(s) 化學示範實驗：可口可樂神奇凝冰—過冷（Supercooling） 297 view(s) 畢氏定理的證明（Proofs of the Pythagoras Theorem） 286 view(s)
電子報總目錄 - 中國材料學學會 出刊號 內 容 索 引 第39期 國家奈米元件實驗室 主任的話 關於NDL 育才 服務 研發 先進半導體製程服務平台簡介 最新論文資訊 一維奈米針矩陣的製作與特性分析
