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半導體擴散原理知識摘要

(共計:20)
  • 半導體製程及原理
    半導體工業的製造方法是在矽半導體上製造電子元件 (產品包括:動態記憶體、靜態記億體、微虛理器…等),而電子元件之完成則由精密 ... (5)純水設備再生廢水:NaOH、HCl、H 2 O 2。 (6)濕式洗滌塔廢水:洗滌廢氣所含之污染質。 2. IC構裝製造作業主要污染源為切割 ...

  • 太陽能電池 - 維基百科,自由的百科全書
    太陽能電池又稱為「太陽能晶片」或光電池 [1],是一種利用太陽光直接發電的光電半導體薄片。它只要被光照到,就可輸出電壓及電流。在物理學上稱為太陽能光伏(Photovoltaic,photo 光,voltaics 伏特,縮寫為PV),簡稱光伏。

  • 太陽能電池轉換原理
    ... 光電池之所以能將光能轉換成電能主要有兩個因素:一是光導效應 ( photo conductive effect ),二是內部電場,因此在選取太陽能電池的 ... 電荷往兩端集中,此時只要外加電路將兩端連接即可利用電池內的電力,這即是所謂的光電效應,也是太陽光電池的轉換原理 ...

  • VOC處理系統設計原理 - GE&R吉能科技股份有限公司
    以流體化床系統(Fluidized Bed Concentrator System)處理揮發性有機廢氣(Volatile Organic Compounds),創始於1970年。主要原因乃是珠狀活性碳(Beaded ... 揮發性有機廢氣(VOC)經由排氣風機進入吸附塔底部,通過空氣分配器,將VOC廢氣均勻分配,直接向上穿透一連串的篩狀托盤 ...

  • 二極體的工作原理與應用 - 中學生網站
    二極體的工作原理與應用 - 4 - 1.正向特性: 在電子電路中,將二極體的正極接在高電位端,負極接在低電位端,二極體就會 導通,這種連接方式,稱為正向偏置。必須說明,當加在二極體兩端的正向電壓

  • 真空PVD濺鍍原理 - 厚昌真空科技有限公司濺鍍 PVD離子鍍膜
    PVD鍍膜(離子鍍膜)技術,其具體原理是在真空 條件下,採用低氣壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸鍍並使被蒸物與氣體都產生電離,利用電子的加速作用,使被蒸鍍物及其反物沉積在工件上 ...

  • 半導體製程及原理
    原理簡介. 一般固體材料依導電情形可分為導體、半導體及絕緣體。材料元件內自由 ..... 半導體製造不管在矽晶圓、積體電路製造,或是IC晶片構裝,其生產製程相當 ...

  • 開啟檔案
    PECVD的沈積原理與一般的CVD之間並沒有太大的差異; 電漿中的反應物是化學活性較高的離子或自由基, ...

  • 5.2 熱處理技術
    目前熱處理的最高溫度約為900℃,且落實地朝低溫化進展。 .... 的可能在退火處理 製程中存在,可是一般而言,單單思考原本的退火處理原理,時間是重要的因素之一,  ...

  • 3-17摻雜技術(Doping technology) - 科技台灣
    2012年8月4日 ... 圖3-24> 離子佈植機的構造與原理。 【實例】 請使用「離子佈植摻雜」,在P型矽基板 的左右各製作一個N型的區域。 〔解〕 在矽晶圓中摻雜少量的5A族 ...

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