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半導體濕製程設備知識摘要

(共計:20)
  • 半導體製程及原理
    半導體工業的製造方法是在矽半導體上製造電子元件 (產品包括:動態記憶體、靜態記億體、微虛理器…等),而電子元件之完成則由精密 ... (5)純水設備再生廢水:NaOH、HCl、H 2 O 2。 (6)濕式洗滌塔廢水:洗滌廢氣所含之污染質。 2. IC構裝製造作業主要污染源為切割 ...

  • 千謄半導體設備製造開發有限公司-(新竹、半導體設備、濕製程清洗蝕刻設備、化學中央供輸系統)
    千謄半導體設備製造開發有限公司,位於新竹市。以濕製程清洗蝕刻設備及化學中央供輸系統為主要產品,服務業界。

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  • 半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 增加單晶圓濕式蝕刻製程的用途 - Semicondutor Magazine
    Ricardo Fuentes, MATECH, Poughkeepsie, New York, United States 儘管乾蝕刻製程在部分的製程中已取得重要的地位,在半導體元件製程以及許多其他相關的技術中,例如微機電系統及光伏元件製造,濕蝕刻仍然是一個主要的技術。濕蝕刻製程常用於半導體的 ...

  • 循還電解濕式噴砂, 鎂合金表面處理系統, MSTC, 福信科技有限公司, 半導體設備
    福信科技有限公司 專營半導體封裝前後段製程設備製造, MSTC, 鎂合金表面處理系統MSTC, 循還電解濕式噴砂

  • 電容式觸控面板(玻璃)濕製程設備-技術與產品 | 睿明科技股份有限公司
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  • 濕式蝕刻製程提高LED光萃取效率之產能與良率 - LEDinside
    由於 LED之 藍寶石基板化學濕式蝕刻 製程,可藉由 基板表面幾何圖形之變化,來改變 LED的散射機制,或將散射光導引至 ...

  • 產品介紹-PCB濕製程設備 - Welcome to T.T.M.
    玻璃蝕刻清洗機 製程說明: 特點: 1.依客戶不同的製程需求,訂製客製化設備 玻璃蝕刻清洗機 製程說明: 特點: 1.依客戶不同的製程需求,訂製客製化設備

  • 半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 半導體濕式清洗製程臭氧水安全風險考量 - Semicondutor Magazine
    隨著半導體製程技術演進,由以往0.18微米至現今90奈米線寬,晶圓表面之污染物控制更為嚴苛,於晶圓清洗後要求於其表面快速形成氧化層,目前以高濃度臭氧水溼式製程,達到產能大及氧化層厚度快速形成為主流;但半導體廠以往著重探討相關製程化學 ...

  • 產品介紹-PCB濕製程設備 - Welcome to T.T.M.
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