Etch Process of TFT Array (捷胤工業).ppt [相容模式]

Important Topics –CD Loss Control • Critical Dimension LOSS – 黃光製程完成原本是10µm 的線寬，經過蝕 刻製程後量測，線寬變為8µm ，則CD Loss 為2µm – 線寬越來越小時，CD Loss Control則更為重 要 – Taper會影響線寬

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