製造大規模積體電路時要對半導體晶圓曝光3,40次。如何在不降低品質的情況下, 減少曝光次數是曝光機的發展方向。 ... 目前市場上提供量產商用的光刻機廠商有 三家:ASML, 尼康(Nikon),佳能(Canon)。
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