設備名稱Equipment 感應耦合離子電漿(Inductively-Coupled Plasma ...

（Dry Etching）又稱為電漿蝕刻（Plasma Etching）且屬於非等向性蝕刻，所以是目前 ... 感應耦合型電漿相較於反應離子蝕刻的腔體構造基本上相同，但前者多感應線圈 ...

cmnst.ncku.edu.tw