蝕刻 - 維基百科，自由的百科全書

到了近代，現在的蝕刻應用在半導體的製程上，透過黃光製成來定義出想要的圖形，利用蝕刻來得到。 半導體的蝕刻可分為乾式蝕刻與溼式蝕刻。 乾式蝕刻:透過電漿的解離，形成離子與物質表面進行化學反應，或是物理轟擊，屬於非等向性的蝕刻 ...

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