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為什麼 IC 產業須要研究低介電材料 (low-k) 超大型積體電路 (ULSI) 在高電晶體容量與運算速度的需求快速增加下，使得元件尺寸縮小，內連線尺寸也必須相對縮小，目前先進製程技術的探討已經進入 ≦65 nm 以下的尺寸範疇。

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