物理氣相沉積(PVD)處理,又可分為真空蒸鍍( Vacuum Evaporation)、濺射( Sputtering)、離子蒸鍍(Ion Plating) 等三種型態。濺鍍法是在輝光放電的環境下, 利用動量傳遞的方式,以離子轟擊置於陰極的靶材,將靶原子濺射出來並 ... 真空設備 簡易圖 ...
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