潔凈室內濕度控制 的必要性 相對濕度是潔凈室運作過程中一個常用的環境控制條件。半導體潔凈室中的典型的相對濕度的目標值大約控制在30至50%的范圍內,允許誤差在±1%的狹窄的范圍內,例如光刻區 或者在遠紫外線處理(DUV)區甚至更小 而在其他 ...
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