氧氣的發現，半導體廠的各製程所需使用的特氣,工業 ...

... 腐蝕性氣體(Corrosive Gas)的Cl2,HCl, F2, HBr, WF6, NH3, BF2, BCl3, SiF4, AsH3, ClF3, N2O, SiCl4, AsCl3及SbCl5等。 ... 氧氣能助燃﹐與其他可燃物按一定比例混合易發生爆炸。 氧氣 ...

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