曝光 - SUSS MicroTec

曝光 晶圓上光阻劑的曝光為製造晶片結構的重要步驟之一。通常使用兩種製程：近接式及投影式微影。近接式微影為一比一的近接或接觸式陰影投射：先將需轉印圖像的光罩對準並置於非常接近晶圓的位置( 即「近接式微影 - "Proximity Lithography"」)，曝光 ...

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