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未來研發次世代無光罩數位式曝光機，傳統曝光機是採用影像轉移原理，必須使用光罩或底片來作成象，無光罩曝光機為因應PCB製程縮微，到50微米以下，用光罩難度越來越高，必須切入直接成像的曝光機。

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