可移轉技術 - 中山科學研究院-軍民通用技術服務網站

光電及電子產業微影蝕刻製程採用各式光阻劑，進行元件或材料表面鍍膜，再以光阻劑進行反復塗佈、微影及蝕刻及去光阻等程序，去光阻又分為曝光前軟洗與曝光後硬洗，NMP溶劑用於去光阻，用量大需要回收使用。

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