半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - CMP廢水處理之各種選擇 - Semicondutor Magazine

化學機械平坦化(Chemical Mechanical Planarization；CMP)製程的廢水成份，因各種不同之晶圓製程，會有非常大的變化，也因此沒有一「完美」的廢水處理方式。本文在此概述各種處理技術之經驗，以供晶圓廠工程師及設備供應商參考。 隨著元件特徵尺寸愈來愈 ...

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