半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 超臨界二氧化碳應用在微電子製造上的發展 - Semicondutor Magazine

在製造積體電路時需要相當繁複的清洗步驟。例如在製造一般的線徑180-nm的積體電路時有125個清洗步驟。當線徑大小愈來愈小時，清洗程序就變得相當具有挑戰性。因為以水為主要溶劑的濕式清洗方式是無法深入既小且深的地方，所以對於線徑很小的 ...

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