半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 真空室壓力控制系統 半導體蝕刻應用的升級選擇 - Semicondutor Magazine

在半導體蝕刻製程上，是使用位於渦輪分子泵(Turbo Molecular Pump, TMP)出口端的節流閥(Throttle Valve)來改變抽氣效率的系統，現在已有另一種有別於傳統真空室壓力控制的選擇。 此系統不需使用靠近真空室的傳統節流閥，所以可以去除微粒的污染源及所需的 ...

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