半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 潤濕液在IC先進微影製程所扮演的角色 - Semicondutor Magazine

I C 線路的設計規格，隨著時代的演進持續快速地縮小，隨著積體電路日益發展，曝光的波長也由g-line，I-line，KrF，ArF 和浸潤式的ArF，漸漸的縮短，但半導體演進到90奈米以下 (sub-90nm) 的元件尺寸，微影製程也面臨越來越多的挑戰，其中製程參數k1將向0.3 ...

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