3> 淺溝渠隔離(Shallow trench isolation, STI)是CMOS技術中的一個關鍵製程,用來隔離電晶體間電子的導通。儘管STI只是用作被動絕緣,當元件尺寸縮小時,其對電晶體特性的影響變成不可忽略。在文章中提出STI影響電晶體表現的兩個例子。首先探討STI對窄 ...
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