半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 新穎的光阻凍結製程在雙重成像技術的應用 - Semicondutor Magazine

3>半導體光阻的主要功能是準確地的複製光罩圖像，並透過後續的蝕刻製程達到元件的線寬(CD)需求。隨著光罩線寬的縮小，圖像成像對比的減少，光罩線寬小於曝光機台的光學極限。特徵間距(feature pitch)的解析度對元件密度最為重要，它決定元件如何堆疊。

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