半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 利用先進臨界尺寸原子力顯微鏡進行光罩蝕刻後之三維量測 - Semicondutor Magazine

10pt 3>針對量測臨界尺寸之需求，已開發出新一代的原子力顯微鏡技術。藉由導入各項新型技術，諸如複合式探針設計、自動化探針校準能力以及表面取樣方式改進等，新世代臨界尺寸原子力顯微鏡(以下簡稱CD AFM)可相當精準地量測出光罩幾何數據。研究 ...

ssttpro.acesuppliers.com