半導體器件製造 - 維基百科，自由的百科全書

半導體製程 10 µm — 1971 年 3 µm — 1975年 1.5 µm — 1982年 1 µm — 1985年 800 nm — 1989年 600 nm — 1994年 350 nm — 1995年 250 nm — 1997年 180 nm — 1999年 130 nm — 2002年 90 nm — 2004年 ...

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