歐姆接觸 - 維基百科，自由的百科全書 隨著集成電路製備過程的發展，遠更複雜的接觸電阻測量 被使用，最流行的方法即為傳輸線測量）（transmission line measurement）。傳輸線測量的基本思路是描繪類似接觸之間同寬不同長度的條狀電阻值。結果曲線的斜率是塊狀薄膜 ...
半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 中科院化學機械研磨漿技術綜覽 - Semicondutor Magazine 化學機械研磨(Chemical Mechanical Polishing，簡稱CMP)製程憑著其全面平坦化之優勢而成為半導體製程中不可或缺的一環，由於在研磨過程中研磨漿消耗量非常之大，成為CMP製程中最主要之耗材。Laredo Associates機構曾於2000年針對CMP研磨漿全球市場作 ...
表面電漿子拉曼增強效應 - 台大材料力學實驗室 研究計畫; 拔尖計畫; 金屬玻璃電脈衝效應; 多層電容力學模擬分析; 表面電漿子拉曼增強效應; \OAO//.
研究領域-光電模擬實驗室 其中表面電漿子(Plasmon)效應在上述領域中扮演著相當重要之角色，具學術研究價值及廣泛的應用潛能， ...
光柵與菱鏡表面電漿波共振光譜模擬 - 臺東大學應用科學系 年度：. 100. 專題生：. 陳政彥. 指導老師：. 林志銘. 查詢關鍵字: 光柵與菱鏡表面電漿 波共振光譜模擬. 摘要:.
