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磁控濺鍍機知識摘要

(共計:10)
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  • 磁 控 濺 鍍 機
    磁 控 濺 鍍 機 (Magnetron Sputter) S O P NCKU Micro-Nano Technology Center/Southern Region MEMS Center 本文件及文件之內容屬國科會南區微系統研究中心所有,謹供列印閱讀,未經許可,請勿以任何形式翻製抄襲。 This document is the property of the ...

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    射頻磁控濺鍍機 RF Magnetron Sputter ¾儀器功能與規格 功能: (1)可濺鍍氮化物如:ZnN、CrN、AlN (2)可濺鍍氧化物:ZrO2、Al2O3 規格: (1)最大輸出功率:RF(600W) (2)射頻產生器操作頻率:13.56 MHz (3)單靶式:3吋靶材 (4)可加熱至600

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