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回到上一頁 【光電技術】XeF準分子雷射退火之低溫多晶矽膜特性分析 [ 本篇摘要 ] 本研究運用準分子雷射對於電漿輔助化學汽相沉積法製作之非晶矽膜進行退火，退火後之多晶矽膜運用金相光學顯微鏡(Optical Microscopy, OM)、原子力顯微鏡(Atomic Force Microscopy ...

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