《半导体IC制造流程》(1)_静谧的蓝_新浪博客 - 新浪博客首页 - 新浪网

2013年8月30日 - 相关仪器材料: 1.光阻(photoresist) 2.光罩(mask) 3.对准机(mask aligner). 4.曝光光源(exposure source) 5.显像溶液(develope solution) 6.烤箱(heating oven). 光阻: 1.正光阻:曝光区域去除 2.负光阻:曝光区域留下. 曝光光源: 1.可见光 ...

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